Sachsens Kunstministerium vergibt Stipendien für den USA-Aufenthalt

Dresden. Bis zum 9. Februar 2009 können sich Bildende Künstlerinnen und Künstler aus Sachsen für einen dreimonatigen Studienaufenthalt in Columbus/Ohio für das Jahr 2010 bewerben. Es werden wieder zwei Stipendien vom Sächsischen Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst vergeben.

Die Stipendien wurden bereits im Jahr 1995 vom Greater Columbus Arts Council und dem Sächsischen Kunstministerium ins Leben gerufen. Sie werden im Rahmen eines internationalen Künstleraustauschprogramms vergeben. Künstlerinnen und Künstler können sich bewerben, die ihren Schaffensmittelpunkt oder ersten Wohnsitz im Freistaat Sachsen haben. Sie müssen überwiegend freiberuflich arbeiten und dürfen weder an einer Hochschule immatrikuliert sein, noch sich in einer Ausbildung befinden.
Bewerbungen für die Stipendien 2010 müssen bis zum 9. Februar 2009 beim Sächsischen Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst eingereicht sein.

Weitere Informationen zur Ausschreibung sind auf den Internetseiten des Ministeriums zu finden.