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Stipendien für Studienaufenthalte in den USA

am . Veröffentlicht in Bildung

Dresden. Das Sächsische Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst vergibt wieder zwei Stipendien an bildende Künstlerinnen und Künstler aus Sachsen.




Diese haben 2009 die Möglichkeit, sich für einen dreimonatigen Studienaufenthalt in Columbus/ Ohio zu bewerben. Das teilte Sachsens Kunstministerin Dr. Eva-Maria Stange heute zum Bewerbungsstart um die Stipendien mit. "Der Studienaufenthalt in Ohio eröffnet den Künstlerinnen und Künstlern viele neue Perspektiven für ihr weiteres künstlerisches Schaffen", so Dr. Stange.
Die Stipendien werden im Rahmen eines internationalen Künstleraustauschprogramms vergeben, das vom Greater Columbus Arts Council und dem Sächsischen Kunstministerium bereits 1995 ins Leben gerufen wurde. Bewerben können sich Künstlerinnen und Künstler, die ihren Schaffensmittelpunkt oder ersten Wohnsitz im Freistaat Sachsen haben, überwiegend freiberuflich arbeiten und weder an einer Hochschule immatrikuliert sind, noch sich in einer Ausbildung befinden.

Im Jahr 2008 wurden die Stipendien an Dirk Lange und Juliane Köhler vergeben. Die beiden jungen Dresdner Künstler waren aus insgesamt 30 Bewerbern ausgewählt worden.
Die Bewerbungsunterlagen und weitere Informationen zur Ausschreibung sind auf den Internetseiten des Kunstministeriums unter www.smwk.sachsen.de zu finden. Bewerbungen für die Stipendien 2009 sind bis zum 8. Februar 2008 beim Sächsischen Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst, Referat Allgemeine Kunstförderung und Soziokultur, Wigardstraße 17 in 01097 Dresden einzureichen.

(smwk/mkr)

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